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发布日期:2019年12月05日
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在半导体深紫外LED研究中

中国科大取得重要进展

本报讯  11月28日,中国科大微电子学院孙海定和龙世兵课题组关于利用蓝宝石衬底斜切角调控量子阱实现三维载流子束缚,突破了紫外LED发光性能的重要进展。相关研究发表在《先进功能材料》。

紫外线虽然在太阳光中能量占比仅5%,但却广泛应用于人类生活。目前紫外光应用包括印刷固化、钱币防伪、皮肤病治疗、植物生长光照、破坏微生物如细菌、病毒等分子结构,因此广泛应用于空气杀菌、水体净化和固体表面除菌消毒等领域。传统的紫外光源一般是采用汞蒸气放电的激发态来产生紫外线,有着功耗高、发热量大、寿命短、反应慢、有安全隐患等诸多缺陷。新型的深紫外光源则采用发光二极管(light emitting diode: LED)发光原理,相对于传统的汞灯拥有诸多的优点。其中最为重要的优势在于其不含有毒汞元素。《水俣公约》的实施,预示2020年将全面禁止含有汞元素紫外灯的使用。因此,开发出一种全新的环保、高效紫外光源,成为了摆在人们面前的一项重要挑战。

而基于宽禁带半导体材料(GaN,AlGaN)的深紫外发光二极管(deep ultraviolet LED: DUV LED)成为这一新应用的不二选择。这一全固态光源体系体积小、效率高,寿命长,仅仅是拇指盖大小的芯片,就可以发出比汞灯还要强的紫外光。我校微电子学院孙海定和龙世兵教授课题组,巧妙通过调控蓝宝石衬底的斜切角,大幅提升紫外LED的IQE和器件发光功率。课题组发现,当提高衬底的斜切角时,紫外LED内部的位错得到明显抑制,器件发光强度明显提高。当斜切角衬底达到4度时,器件荧光光谱的强度提升了一个数量级,而内量子效率也达到了破纪录的90%以上。

通过在4度斜切角衬底上优化外延生长调节,研究人员摸索到了一种最佳的DUVLED结构,将会为高效率的全固态紫外光源的研发提供新的思路。

微电子学院孙海定研究员为论文的第一作者和共同通讯作者。该项目联合中科院宁波材料所郭炜和叶继春研究员,华中科技大学戴江南和陈长清教授,河北工业大学张紫辉教授,沙特阿卜杜拉国王科技大学Boon Ooi和Iman Roqan教授一起攻关完成。

 (信息科学技术学院 科研部)